用于移除表面沈积物之远室(REMOTE CHAMBER)方法

摘要

本发明系关于一种用来从表面移除表面沉积物之改娘的远距电浆清洁方法，该表面如：用于制造电子装置之沉积室的内面。其改良包括添加氮源到包含氧及氟化碳之进料气体混合物中。其改良亦包含从远室到表面沉积物之通道内部表面的前处理，是藉着活化包含氮源之前处理气体混合物，并且将经活化之前处理气体通过该通道。