首页
产品
黄页
商标
征信
会员服务
注册
登录
全部
|
企业名
|
法人/股东/高管
|
品牌/产品
|
地址
|
经营范围
发明名称
Method for fabricating semiconductor using porous region
摘要
申请公布号
KR100595857(B1)
申请公布日期
2006.06.30
申请号
KR20030101479
申请日期
2003.12.31
申请人
发明人
分类号
H01L21/76
主分类号
H01L21/76
代理机构
代理人
主权项
地址
您可能感兴趣的专利
气冷式换气装置
以低温蒸馏法用于空气分离之程序及工厂
燃料箱用之层压结构
用以移除液体污染物之可再使用之垫片
资料解码装置
脚底穴道活络器
可调式电针脚垫
便于直接插组或连接模组电路之电讯插座
座椅型按摩机
鞋带头腊片图标定位方法
烟品之包装
时计之安全阀
多用途收纳盒体结构
生鲜蔬果包装暨展示盒追加(二)
非接触式IC卡读取器
控制生产系统之方法和设备
感压转写粘贴传票
资料处理系统中之输入运算元控制技术
快速救援界面电路
视觉式秘密分享技术