METHOD FOR PRODUCTION OF A THIN-LAYER SOLAR CELL WITH MICROCRYSTALLINE SILICON AND LAYER SEQUENCE
摘要
<p>Die Erfindung betrifft ein Verfahren zur Herstellung einer Dünnschichtsolarzelle mit mikrokristallinem Silizium sowie eine Schichtfolge Erfindungsgemäß wird bei pin- oder nip-Dünnschichtsolarzellen auf die untere p- oder n- Schicht mit einem HWCVD-Verfahren eine mikrokristalline Siliziumschicht aufgetragen, bevor die mikrokristalline i-Schicht aufgetragen wird. Dadurch wird der Wirkungsgrad der Dünnschichtsolarzelle um bis zu 0,8% absolut erhöht.</p>
