因瓦合金箔的制备方法

摘要

本发明属于精密合金领域，涉及因瓦合金箔的制备方法。本发明所述的因瓦合金，即镍含量为35～37％(wt％)的Fe－Ni合金，所述的因瓦合金箔的制造方法是采用电沉积法，电解液为低金属盐浓度的硫酸盐体系，同时添加缓冲剂、络合剂、光亮剂和辅助剂，并使用304不锈钢、I_r氧化物涂层钛板分别作为阴极和阳极材料；电沉积的工艺参数为：温度50～70℃，pH3.0～4.5，电流密度1.0～10.0A/dm²，阴阳极间距10～30mm，电沉积时间5～50min。将阴阳极置于电解液中，通以一定时间的直流电，将因瓦合金沉积在阴极上，然后取出阴极板冲洗干净，经干燥将其表面形成的Fe－Ni合金层剥离下来，即成为因瓦合金箔。

主权项

1.一种因瓦合金箔的制备方法，采用电沉积法，电解液为硫酸盐体系，以金属为阴阳极，并置于电解液中，通以一定时间的直流电，将因瓦合金沉积在阴极上，然后取出阴极板冲洗干净，经干燥将其表面形成的Fe-Ni合金层剥离下来，即成为因瓦合金箔，其特征在于：①采用低金属盐浓度的硫酸盐体系的电解液，电解液的具体组份为：NiSO4·6H2O 45～50g/L，FeSO4·7H2O 32～36g/L，NaCl 20～30g/L，缓冲剂20～50g/L，络合剂20～50g/L，光亮剂2～6g/L，辅助剂0.1～1.2g/L，添加剂CeCl3·7H2O 0.1～1.0g/L，②阴极基板使用304不锈钢，阳极采用Ir氧化物涂层钛板；③电沉积的工艺参数为： 温度 50～70℃ pH 3.0～4.5 电流密度 1.0～5.0A/dm2 阴阳极间距 10～30mm 电沉积时间 5～50min。