离子注入设备及离子注入方法

摘要

本发明公开了一种离子注入设备及离子注入方法。该离子注入设备设置有控制装置，该装置在未对衬底进行离子注入的过程中控制其运行状态处于选自以下模式的任意模式中的状态，该模式为：(a)待机模式，其中，供给至离子源的原料气体的流速以及从等离子体发生电源供给的功率降低到能保持离子源内等离子体的产生的数值；(b)磁体关闭模式，其中，除了待机模式中的状态外，自能量分离磁体电源、扫描磁体电源和束平行化磁体电源的输出也被停止；以及(c)停机模式，其中，原料气体的供给终止，且自电源的输出终止。

主权项

1.一种离子注入设备，包括：一离子源，用于电离原料气体以产生等离子体，并从该等离子体中引出离子束；气体供给装置，用于向离子源供给原料气体；一主泵和一初级泵，用于对连接于离子源且离子束经过其中的束路线真空室内部抽真空；一注入腔室，在该腔室内，以自离子源引出的离子束辐照衬底，以将离子注入到衬底中；一真空预备室，在注入腔室和外界大气之间，衬底放入其中或从其中取出；一真空预备室泵，用于对真空预备室的内部抽真空；以及一控制装置，用于实施以下模式中的至少一种，该些模式为：(a)初级泵低速模式，其中，控制初级泵以一旋转速度运行，该速度比束路线真空室内部处于预定高真空状态、且原料气体未从气体供给装置供给到离子源的条件下的稳定旋转速度低；以及(b)真空预备室泵低速模式，其中，控制真空预备室泵以一旋转速度运行，该速度比真空预备室内部达到预定真空度时的稳定旋转速度低。