首页 产品 黄页 商标 征信
会员服务 注册 登录 
全部
 |
企业名
 |
法人/股东/高管
 |
品牌/产品
 |
地址
 |
经营范围
发明名称 PROCESS FOR TREATING A SEMICONDUCTOR WAFER WITH A GASEOUS MEDIUM, AND SEMICONDUCTOR WAFER TREATED BY THIS PROCESS
摘要
申请公布号 KR20060073520(A) 申请公布日期 2006.06.28
申请号 KR20050128908 申请日期 2005.12.23
申请人 SILTRONIC AG 发明人 STADLER MAXIMILIAN;SCHWAB GUENTER;FREY CHRISTOPH;STALLHOFER PETER
分类号 H01L21/302 主分类号 H01L21/302
代理机构 代理人
主权项
地址
您可能感兴趣的专利
©  2024 传众  czvv.com