| 发明名称 | 一种成膜方法 | ||
| 摘要 | 在一边从设于喷嘴的排出口，对衬底连续地排出调整后的溶液使其在上述衬底上蔓延规定量，一边相对移动上述喷嘴和衬底，在上述衬底上留下供给的溶液，并在上述衬底上形成液膜的成膜方法中，设定上述喷嘴的排出口与上述衬底的距离h为2mm以上，而且对于上述溶液表面张力γ(N/m)、从上述排出口连续地排出的溶液排出速度q(m/sec)、和常数5×10<SUP>-5</SUP>(m·sec/N)，为不足5×10<SUP>-5</SUP>qγ(mm)的范围内。 | ||
| 申请公布号 | CN1261976C | 申请公布日期 | 2006.06.28 |
| 申请号 | CN03102108.5 | 申请日期 | 2003.01.30 |
| 申请人 | 株式会社东芝 | 发明人 | 伊藤信一;江间达彦;早崎圭;中田錬平;山田展英;奥村勝弥 |
| 分类号 | H01L21/027(2006.01);B05C9/12(2006.01);G03F7/16(2006.01) | 主分类号 | H01L21/027(2006.01) |
| 代理机构 | 北京市中咨律师事务所 | 代理人 | 陈海红;段承恩 |
| 主权项 | 1、一种成膜方法，该成膜方法中，一边相对移动喷嘴和衬底，一边从设于上述喷嘴的排出口，对上述衬底连续地排出在上述衬底上蔓延规定量的溶液，在上述衬底上留下排出的上述溶液，并在上述衬底上形成液膜，其特征在于，上述喷嘴的排出口与上述衬底的距离h设定为大于2mm且不足Aqγ(mm)，这里，q(m/sec)是从上述排出口连续地排出溶液的排出速度，γ(N/m)是上述溶液的表面张力，A(m·sec/N)是5×10-5。 | ||
| 地址 | 日本东京都 | ||