CMOS图像传感器及其制造方法

摘要

本发明公开了一种能够提高光的聚焦能力的CMOS图像传感器及其制造方法。CMOS图像传感器包括多个在平面化层的上部形成的第一微透镜，每个第一微透镜均排列在相应的光电二极管上方，以及在平面化层上形成的多个第二微透镜，多个第二微透镜的每个分别包围相应的第一微透镜。

主权项

1.一种CMOS图像传感器，包括：半导体衬底；多个光电二极管，相互间以预定距离排列在所述半导体衬底上；内绝缘层，形成在包括所述光电二极管的所述半导体衬底的整个表面上；多个滤色器层，相互间以预定距离排列在所述内绝缘层上；平面化层，形成在包括所述滤色器层的所述半导体衬底的整个表面上；多个第一微透镜，形成在所述平面化层的上部中，每个所述第一微透镜分别排列在相应的光电二极管上方；以及多个第二微透镜，形成在所述平面化层上，所述多个第二微透镜中的每个分别包围相应的第一微透镜。