发明名称 铁氧体移相器实现高精度移相的方法
摘要 本发明涉及一种铁氧体移相器实现高精度移相的方法,该方法采用磁通式激励与饱和数字式激励相结合的数控方式,使移相器产生高精度移相,具体做法是:将波导中心加载的铁氧体沿波的传播方向分成n段,n≥2;其第1段采用磁通式激励方式,其余n-1段采用饱和数字式激励方式;然后,将磁通式激励段相移值与各饱和数字式激励段相移值进行叠加,使移相器在大于或等于360°范围内,按磁通式激励段的步进量进行高精度数控移相。本发明与使用单一的磁通式激励或饱和数字式激励的数控移相方式相比,可有效地提高移相精度。其最高移相精度可达到<1°,能满足微波高频段高精度移相的要求。
申请公布号 CN1794513A 申请公布日期 2006.06.28
申请号 CN200510022749.7 申请日期 2005.12.29
申请人 中国兵器工业第二○六研究所 发明人 高昌杰;张蔚华;鲁小刚;杨卓;杨景
分类号 H01P1/195(2006.01) 主分类号 H01P1/195(2006.01)
代理机构 陕西电子工业专利中心 代理人 张问芬;韦全生
主权项 1.一种铁氧体移相器实现高精度移相的方法,采用磁通式激励与饱和数字式激励结合的数控方式,满足微波高频移相器高精度移相要求,它将加载于波导中心的铁氧体沿波的传播方向分成n段,n≥2;其第1段采用磁通式激励,其余n-1段采用饱和数字式激励;然后,将磁通式激励段相移值与各饱和激励段相移值进行叠加,使移相器在大于或等于360°范围内,按磁通式激励段的相移步进量实现了高精度移相。
地址 710100陕西省西安市长安区凤栖东路
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