带电粒子小射束曝光系统

摘要

本发明涉及用于带电粒子束曝光装置的带电粒子光学系统，该系统包括：第一光圈装置，包括至少一个基本上圆形的第一光圈，用于部分屏蔽用来形成至少一个带电粒子小射束的发射的带电粒子束；透镜系统，包括至少一个用来将来自于所述第一光圈的带电粒子小射束进行聚焦的透镜，将其聚焦在该透镜的图像焦平面内或附近；偏转器装置，基本上位于该图像焦平面内，包括至少一个小射束偏转器，该偏转器用来在接收到控制信号后偏转经过的所述带电粒子小射束；以及第二光圈装置，包括至少一个位于第一光圈的共轭平面内的基本上圆形的第二光圈，并且该第二光圈与该第一光圈以及该小射束偏转器对准，用来阻挡由小射束偏转器偏转的带电粒子束，或者让其通过。

主权项

1.一种用于带电粒子束曝光装置的带电粒子光学系统，所述系统包括：-第一光圈装置，包括至少一个基本上圆形的第一光圈，用于部分屏蔽用来形成至少一个带电粒子小射束的发射的带电粒子束；-透镜系统，包括至少一个用来将产生于所述第一光圈的一个或多个带电粒子小射束进行聚焦的透镜，将其聚焦在所述透镜的图像焦平面内或附近；-偏转器装置，基本上位于所述图像焦平面内，包括至少一个小射束偏转器，用来在接收到控制信号后偏转经过所述偏转器的所述一个或多个带电粒子小射束；以及-第二光圈装置，包括至少一个位于所述第一光圈的共轭平面内的基本上圆形的第二光圈，并且所述第二光圈与所述第一光圈以及所述小射束偏转器对准，用来阻挡由所述小射束偏转器偏转的一个或多个带电粒子小射束，或者让其通过。