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发明名称 APPARATUS AND METHOD FOR SEMICONDUCTOR PROCESS
摘要
申请公布号 KR20060072058(A) 申请公布日期 2006.06.27
申请号 KR20050126805 申请日期 2005.12.21
申请人 TOKYO ELECTRON LIMITED 发明人 SUZUKI DAISUKE;HASEGAWA MASAYUKI;ENDO ATSUSHI
分类号 H01L21/20 主分类号 H01L21/20
代理机构 代理人
主权项
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