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发明名称 PHOTORESIST MONOMER, PHOTORESIST POLYMER AND PHOTORESIST COMPOSITION CONTAINING IT
摘要
申请公布号 KR20060070649(A) 申请公布日期 2006.06.26
申请号 KR20040109190 申请日期 2004.12.21
申请人 HYNIX SEMICONDUCTOR INC. 发明人 LEE, GEUN SU
分类号 G03F7/027 主分类号 G03F7/027
代理机构 代理人
主权项
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