SEMICONDUCTOR DEVICE FABRICATION METHOD FOR PREVENTING MICRO CRACK OF DIELECTRIC LAYER IN CHEMICAL MECHANICAL POLISHING PROCESS,申请号KR20040117837-传众专利搜索

发明名称	SEMICONDUCTOR DEVICE FABRICATION METHOD FOR PREVENTING MICRO CRACK OF DIELECTRIC LAYER IN CHEMICAL MECHANICAL POLISHING PROCESS
摘要
申请公布号	KR100595142(B1)	申请公布日期	2006.06.22
申请号	KR20040117837	申请日期	2004.12.31
申请人	DONGBU ELECTRONICS CO., LTD.	发明人	KIM, HWAL PYO
分类号	H01L21/304	主分类号	H01L21/304
代理机构		代理人
主权项
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