发明名称 Herstellverfahren für eine Siliziumoxid-Schicht auf einer Topographie
摘要
申请公布号 DE59611347(D1) 申请公布日期 2006.06.22
申请号 DE19965011347 申请日期 1996.12.02
申请人 INFINEON TECHNOLOGIES AG 发明人 TOEBBEN, DIRK, DR.;GROTELOH, DOERTHE;SPINDLER, MICHAEL, DR.;ROGALLI, MICHAEL, DR.
分类号 H01L21/768;H01L21/316 主分类号 H01L21/768
代理机构 代理人
主权项
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