发明名称 增亮整合型偏光膜/光学膜结构及制造方法
摘要 本发明系为一种增亮整合型偏光膜∕光学膜结构及制造方法,用以解决知偏光膜与增亮膜组合后,整体光学效应匹配不良,造成整体穿透度下降的缺点。本发明增亮整合型偏光膜∕光学膜包含吸收型与反射型两种偏光膜层,其中反射型偏光膜层可产生反射光源效应,且利用非线性光学设计将不同染料之增亮整合型偏光膜∕光学膜涂布在至少一基板上,而产生一同时兼具反射增亮效应、高偏光度、高透光度、广视角与高对比等功能特性之增亮整合型偏光膜∕光学膜结构及制程方法。
申请公布号 TWI257007 申请公布日期 2006.06.21
申请号 TW094103676 申请日期 2005.02.04
申请人 中国台湾台湾薄膜电晶体液晶显示器产业协会;中华映管股份有限公司 CHUNGHWA PICTURE TUBES, LTD. 桃园县八德市和平路1127号;友达光电股份有限公司 AU OPTRONICS CORP. 新竹市新竹科学园区力行二路1号;广辉电子股份有限公司 QUANTA DISPLAY INC. 桃园县龟山乡华亚二路189号;瀚宇彩晶股份有限公司 HANNSTAR DISPLAY CORPORATION 台北市松山区民生东路3段115号5楼;奇美电子股份有限公司 CHI MEI OPTOELECTRONICS CORP. 台南县新市乡台南科学园区奇业路1号;财团法人工业技术研究院 INDUSTRIAL TECHNOLOGY RESEARCHINSTITUTE 新竹县竹东镇中兴路4段195号;统宝光电股份有限公司 TOPPOLY OPTOELECTRONICS CORP. 苗栗县竹南镇科学园区科中路12号 发明人 郑岳世;陈育翔;刘韦志;王宗雄;吴昱勋;简维谊
分类号 G02B1/00 主分类号 G02B1/00
代理机构 代理人 谢宗颖 台北市大安区敦化南路2段71号18楼;王云平 台北市大安区敦化南路2段71号18楼
主权项 1.一种增亮整合型偏光膜/光学膜结构之制造方法, 系包括下列步骤: 提供至少一基材;及 至少涂布一层不同材料时之增亮整合型偏光膜/光 学膜于该些基材上,其中该些不同材料之增亮整合 型偏光膜/光学膜系包含两部份,第一部份为反射 型偏光增亮膜且第二部份为吸收型偏光膜层。 2.如申请专利范围第1项所述之增亮整合型偏光膜/ 光学膜结构之制造方法,其中该些基材系为远光基 材或不透光基材。 3.如申请专利范围第1项所述之增亮整合型偏光膜/ 光学膜结构之制造方法,其中该些基材系为高分子 聚合物所组成者。 4.如申请专利范围第1项所述之增亮整合型偏光膜/ 光学膜结构之制造方法,其中该涂布之步骤系为狭 缝模具式涂布法(Slot-die Coating)、挤压式模具涂布 法(Extrusion Coating)、绕线棒涂布法(Mayer Rod Coating) 或刮刀涂布法。 5.如申请专利范围第1项所述之增亮整合型偏光膜/ 光学膜结构之制造方法,其中该增亮整合型偏光膜 /光学膜于一显示组织(cell)外制作时,该吸收型偏 光膜层系为染料系偏光膜层或E型偏光膜层。 6.如申请专利范围第1项所述之增亮整合型偏光膜/ 光学膜结构之制造方法,其中该反射型偏光增亮膜 可于一显示组织(cell)内或外制作。 7.如申请专利范围第1项所述之增亮整合型偏光膜/ 光学膜结构之制造方法,其中该吸收型偏光膜层可 于一显示组织内或外制作。 8.如申请专利范围第7项所述之增亮整合型偏光膜/ 光学膜结构之制造方法,其中该吸收型偏光膜层于 该显示组织外制作时,系与该反射型偏光增亮膜贴 合。 9.如申请专利范围第7项所述之增亮整合型偏光膜/ 光学膜结构之制造方法,其中该吸收型偏光膜层系 以涂布步骤涂布于该反射型偏光增亮膜上后再与 该显示组织贴合。 10.如申请专利范围第1项所述之增亮整合型偏光膜 /光学膜结构之制造方法,其中该增亮整合型偏光 膜/光学膜结构系应用为一显示器之偏光膜、增亮 膜、广视角膜或一般光学膜。 11.一种增亮整合型偏光膜/光学膜结构之制造方法 ,系包括下列步骤: 提供至少一基材;及 至少涂布一层不同材料之增亮整合型偏光膜/光学 膜于该些基材上,其中该些不同材料之增亮整合型 偏光膜/光学膜系包含两部份,第一部份为胆固醇 液晶反射型增亮膜且第二部份为吸收型偏光膜层 。 12.如申请专利范围第11项所述之增亮整合型偏光 膜/光学膜结构之制造方法,其中该些基材系为透 光基材或不透光基材。 13.如申请专利范围第11项所述之增亮整合型偏光 膜/光学膜结构之制造方法,其中该些基材系为高 分子聚合物所组成者。 14.如申请专利范围第11项所述之增亮整合型偏光 膜/光学膜结构之制造方法,其中该涂布之步骤系 为狭缝模具式涂布法(Slot-die Coating)、挤压式模具 涂布法(Extrusion Coating)、绕线棒涂布法(Mayer Rod Coating)或刮刀涂布法。 15.如申请专利范围第11项所述之增亮整合型偏光 膜/光学膜结构之制造方法,其中该增亮整合型偏 光膜/光学膜以涂布步骤涂布于一显示组织(cell)外 制作时,该吸收垫偏光膜层系为染料系偏光膜层。 16.如申请专利范围第11项所述之增亮整合型偏光 膜/光学膜结构之制造方法,其中该胆固醇液晶反 射型增亮膜系于一显示组织(cell)内或外制作。 17.如申请专利范围第11项所述之增亮整合型偏光 膜/光学膜结构之制造方法,其中该吸收型偏光膜 层可于一显示组织内或外制作。 18.如申请专利范围第17项所述之增亮整合型偏光 膜/光学膜结构之制造方法,其中该吸收型偏光膜 层于该显示组织外制作时,系与该胆固醇液晶反射 型增亮膜贴合。 19.如申请专利范围第17项所述之增亮整合型偏光 膜/光学膜结构之制造方法,其中该吸收型偏光膜 层系以涂布步骤涂布于该胆固醇液晶反射型增亮 膜上后再与该显示组织贴合。 20.如申请专利范围第11项所述之增亮整合型偏光 膜/光学膜结构之制造方法,其中该增亮整合型偏 光膜/光学膜结构系应用为一显示器之一偏光膜、 增亮膜、广视角膜或一般光学膜。 21.一种增亮整合型偏光膜/光学膜结构之制造方法 ,系包括下列步骤: 提供至少一基材;及 至少涂布一层不同材料之增亮整合型偏光膜/光学 膜于该些基材上,其中该些不同材料之增亮整合型 偏光膜/光学膜系包含两部份,第一部份为胆固醇 液晶反射型增亮膜且第二部份为E型偏光膜层。 22.如申请专利范围第21项所述之增亮整合型偏光 膜/光学膜结构之制造方法,其中该些基材系为透 光基材或不透光基材。 23.如申请专利范围第21项所述之增亮整合型偏光 膜/光学膜结构之制造方法,其中该些基材系为高 分子聚合物所组成者。 24.如申请专利范围第21项所述之增亮整合型偏光 膜/光学膜结构之制造方法,其中该涂布之步骤系 为狭缝模具式涂布法(Slot-die Coatin)、挤压式模具 涂布法(Extrusion Coating)、绕线棒涂布法(Mayer Rod Coating)或刮刀涂布法。 25.如申请专利范围第21项所述之增亮整合型偏光 膜/光学膜结构之制造方法,其中该胆固醇液晶反 射型增亮膜系于一显示组织(cell)内或外制作。 26.如申请专利范围第21项所述之增亮整合型偏光 膜/光学膜结构之制造方法,其中该E型偏光膜层可 于一显示组织内或外制作。 27.如申请专利范围第21项所述之增亮整合型偏光 膜/光学膜结构之制造方法,更包含一/4波片,其 中该/4波片系设置于该E型偏光膜层及一胆固醇 液晶层中间。 28.如申请专利范围第27项所述之增亮整合型偏光 膜/光学膜结构之制造方法,其中该E型偏光膜层及 该/4波片之光轴互相平行。 29.如申请专利范围第21项所述之增亮整合型偏光 膜/光学膜结构之制造方法,其中该E型偏光膜层于 该显示组织外制作时,系与该胆固醇液晶反射型增 亮膜贴合。 30.如申请专利范围第21项所述之增亮整合型偏光 膜/光学膜结构之制造方法,其中该E型偏光膜层系 以涂布步骤涂布于该胆固醇液晶反射型增亮膜上 后再与该显示组织贴合。 31.如申请专利范围第21项所述之增亮整合型偏光 膜/光学膜结构之制造方法,其中该增亮整合型偏 光膜/光学膜之偏光度为70%以上及透光度为40%以上 。 32.如申请专利范围第21项所述之增亮整合型偏光 膜/光学膜结构之制造方法,其中该增亮整合型偏 光膜/光学膜结构系应用为一显示器之偏光膜、增 亮膜、广视角膜或一般光学膜。 33.一种增亮整合型偏光膜/光学膜结构,系为至少 涂布一层不同材料之增亮整合型偏光膜/光学膜结 构,其中该些不同材料之增亮整合型偏光膜/光学 膜包含两部份,第一部份为反射型偏光增亮膜且第 二部份为吸收型偏光膜层。 34.一种增亮整合型偏光膜/光学膜结构,系包括: 至少一基材; 至少一层不同材料之增亮整合型偏光膜/光学膜, 设置于一该些基材之任一侧,其中该些不同材料之 增亮整合型偏光膜/光学膜系包含两部份,第一部 份为反射型偏光膜层而第二部份为吸收型偏光膜 层。 35.如申请专利范围第34项所述之增亮整合型偏光 膜/光学膜结构,其中该些基材系为透光基材或不 透光基材。 36.如申请专利范围第34项所述之增亮整合型偏光 膜/光学膜结构,其中该增亮整合型偏光膜/光学膜 于一显示组织外制作时,该吸收型偏光膜层系为染 料系偏光膜层或E型偏光膜层,且该反射型偏光膜 层系为反射型偏光增亮膜或胆固醇液晶反射型增 亮膜。 37.如申请专利范围第36项所述之增亮整合型偏光 膜/光学膜结构,其中该吸收型偏光膜层系为E型偏 光膜层且该反射型偏光膜层系为胆固醇液晶反射 型增亮膜时,于该E型偏光膜层及一胆固醇液晶层 中间设置一/4波片。 38.如申请专利范围第36项所述之增亮整合型偏光 膜/光学膜结构,其中该吸收型偏光膜层系为E型偏 光膜层且该反射型偏光膜层系为胆固醇液晶反射 型增亮膜时,该增亮整合型偏光膜/光学膜之偏光 度为70%以上及透光度为40%以上。 39.如申请专利范围第34项所述之增亮整合型偏光 膜/光学膜结构,更包含一导电层。 40.如申请专利范围第39项所述之增亮整合型偏光 膜/光学膜结构,其中该导电层系设置于该基材上 、该吸收型偏光膜层上或该反射型偏光膜层上。 41.如申请专利范围第34项所述之增亮整合型偏光 膜/光学膜结构,其中该增亮整合型偏光膜/光学膜 结构系搭配涂布方法而作不同的组合。 42.如申请专利范围第34项所述之增亮整合型偏光 膜/光学膜结构,其中该反射型偏光膜层系于一显 示组织(cell)内或外制作。 43.如申请专利范围第42项所述之增亮整合型偏光 膜/光学膜结构,其中该反射型偏光膜层于该显示 组织外制作时,系为反射型偏光增亮膜或胆固醇液 晶反射型增亮膜。 44.如申请专利范围第34项所述之增亮整合型偏光 膜/光学膜结构,其中该吸收型偏光膜层可于一显 示组织内或外制作。 45.如申请专利范围第44项所述之增亮整合型偏光 膜/光学膜结构,其中该吸收型偏光膜层于该显示 组织外制作时,系与该反射型偏光膜层贴合。 46.如申请专利范围第44项所述之增亮整合型偏光 膜/光学膜结构,其中该吸收型偏光膜层系涂布于 该反射型偏光膜层上后与该显示组织贴合。 47.如申请专利范围第34项所述之增亮整合型偏光 膜/光学膜结构,其中该增亮整合型偏光膜/光学膜 结构系以涂布方法应用为一显示器之偏光膜、增 亮膜、广视角膜或一般光学膜。 48.一种应用增亮整合型偏光膜/光学膜结构之显示 单元,系包括: 一上基板及一下基板; 至少一层不同材料之增亮整合型偏光膜/光学膜, 设置于该上基板或该下基板之任一侧,其中该些不 同材料之增亮整合型偏光膜/光学膜系包含两部份 ,第一部份为反射型偏光膜层而第二部份为吸收型 偏光膜层;及 复数个显示流体介质,系填充于该上基板及该下基 板之间。 49.如申请专利范围第48项所述之应用增亮整合型 偏光膜/光学膜结构之显示单元,其中该上基板及 该下基板系为透光基材或不透光基材。 50.如申请专利范围第48项所述之应用增亮整合型 偏光膜/光学膜结构之显示单元,其中该增亮整合 型偏光膜/光学膜于一显示组织外制作时,该吸收 型偏光膜层系为染料系偏光膜层或E型偏光膜层, 且该反射型偏光膜层系为反射型偏光增亮膜或胆 固醇液晶反射型增亮膜。 51.如申请专利范围第50项所述之增亮整合型偏光 膜/光学膜结构,其中当该吸收型偏光膜层系为E型 偏光膜层且该反射型偏光膜层系为胆固醇液晶反 射型增亮膜时,于该E型偏光膜层及一胆固醇液晶 层中间设置一/4波片。 52.如申请专利范围第50项所述之增亮整合型偏光 膜/光学膜结构,其中该吸收型偏光膜层系为E型偏 光膜层且该反射型偏光膜层系为胆固醇液晶反射 型增亮膜时,该增亮整合型偏光膜/光学膜之偏光 度为70%以上及透光度为40%以上。 53.如申请专利范围第48项所述之应用增亮整合型 偏光膜/光学膜结构之显示单元,其中该反射型偏 光膜层系于一显示组织内或外制作。 54.如申请专利范围第48项所述之应用增亮整合型 偏光膜/光学膜结构之显示单元,其中该反射型偏 光膜层于该显示组织外制作时,系为反射型偏光增 亮膜或胆固醇液晶反射型增亮膜。 55.如申请专利范围第48项所述之应用增亮整合型 偏光膜/光学膜结构之显示单元,其中该吸收型偏 光膜层可于一显示组织内或外制作。 56.如申请专利范围第48项所述之应用增亮整合型 偏光膜/光学膜结构之显示单元,其中该吸收型偏 光膜层系于该显示组织外制作时,系与该反射型偏 光膜层贴合。 57.如申请专利范围第48项所述之应用增亮整合型 偏光膜/光学膜结构之显示单元,其中该吸收型偏 光膜层系涂布步骤涂布于该反射型偏光膜层上后 再与该显示组织贴合。 58.如申请专利范围第48项所述之应用增亮整合型 偏光膜/光学膜结构之显示单元,其中该些显示流 体介质系为液晶、电泳、自我发光物体或其他易 于显示之流体介质。 图式简单说明: 第一图系为习知技术之O型偏光膜与E型偏光膜之 特性比较表; 第二图系为习知技术之反射型偏光增亮膜与胆固 醇液晶反射型偏光片之特性比较表; 第三A图系为本发明之增亮整合型偏光膜/光学膜 结构示意图; 第三B图及第三C图系为本发明单基材涂布不同材 料之增亮整合型偏光膜/光学膜结构实施例示意图 ; 第四图系为本发明应用增亮整合型偏光膜/光学膜 结构之显示单元实施例示意图;及 第五A图至第五E图系为本发明之增亮整合型偏光 膜/光学膜结构内含导电层实施例示意图。
地址 新竹县竹东镇中兴路4段195号15馆282室