制造反射型液晶显示器的方法

摘要

一种制造反射型液晶显示器的方法，其能均一地形成浮凸，以造成在整个基板上入射光有均一的反射角。该方法之步骤包括：涂布一负型有机绝缘层，软烤该有机绝缘层，施行有机绝缘层之第一曝光制程，经使用有孔之曝光光罩而施行有机绝缘层之第二曝光制程，及经由后烤制程并对有机绝缘层之非曝光部份实施热制程，固化该有机绝缘层，因而形成浮凸。有机绝缘层之第一曝光制程的实施，系经由运用比最适曝光量更少之能量，而有机绝缘层之第二曝光制程的实施，系经由运用最适曝光量。

主权项

1.一种制造反射型液晶显示器的方法,其步骤包括: i.在和一包含薄膜电晶体之下层共同形成之玻璃 基板上,涂布有一负型有机绝缘层; ii.于90-120℃的温度下,软烤有机绝缘层90-180秒; iii.在60-120毫焦耳(MJ)的能量下,曝光1000-3000毫秒而 对有机绝缘层实施第一曝光制程而并不使用曝光 光罩,使有机绝缘层之整个表面会发生交互连结; iv.以200-300毫焦耳(MJ)的能量,曝光5000-8000毫秒而对 有机绝缘层实施第二曝光制程,其并使用有孔之曝 光光罩,使只有由第一曝光制程所决定之有机绝缘 层之曝光部份会发生交互连结;以及 v.固化受到第一与第二曝光制程控制的有机绝缘 层,经由于200-240℃的温度下,20-40分钟的后烤制程 和对有机绝缘层之非曝光部份进行热制程,以引发 存在于有机绝缘层之溶剂之释气,因而形成浮凸。 2.如申请专利范围第1项之方法,其中有机绝缘层之 第一曝光制程之实施,系经由运用比最适曝光量更 少之能量,有机绝缘层之第二曝光制程之实施,系 经由运用最适曝光量。 图式简单说明: 第1A到1C图为根据本发明之一具体实施例显示之反 射型液晶显示器制程的截面图。