发明名称 光透过性薄片,背投射型投影机,光透过性薄片制造装置,及电脑可读取之记录媒体
摘要 本发明之光透过性薄片,系于影像之投射光射入之射入面形成有细微凹凸5,该细微凹凸使上述射入面之光泽度(G s 60度)成为35%以下之背投射型投影机100使用之光透过性薄片。依此构成,投射光L受射入面2a之细微凹凸5之散射效果影响而被向量分解减弱其光强度,可以抑制回折反射光之产生。
申请公布号 TWI257030 申请公布日期 2006.06.21
申请号 TW092107652 申请日期 2003.04.03
申请人 精工爱普生股份有限公司 发明人 口昌史
分类号 G03B21/60;H04N5/74 主分类号 G03B21/60
代理机构 代理人 林志刚 台北市中山区南京东路2段125号7楼
主权项 1.一种使用于背投射型投影机之光透过性薄片,其 特征为:在影像投射光射入用之射入面形成细微凹 凸,该细微凹凸使上述射入面之光泽度(G s 60度)成 为35%以下。 2.如申请专利范围第1项之光透过性薄片,其中 上述光透过性薄片之模糊度値为33%以下。 3.如申请专利范围第2项之光透过性薄片,其中 产生上述细微凹凸之随机图型,藉由喷液法依该图 型形成上述细微凹凸。 4.如申请专利范围第1项之光透过性薄片,其中,上 述细微凹凸,系具有半球状、略圆锥状、圆筒状、 或曲面形状,上述细微凹凸以随机方式形成。 5.如申请专利范围第4项之光透过性薄片,其中 产生上述细微凹凸之随机图型,藉由喷液法依该图 型形成上述细微凹凸。 6.一种背投射型投影机,其特征为:具有申请专利范 围第1-5项中任一项之光透过性薄片,其中该光透过 性薄片之射出面为透过型萤幕之菲涅尔(Fresnel)透 镜。 7.一种背投射型投影机,其特征为:具有申请专利范 围第1-5项中任一项之光透过性薄片,该光透过性薄 片系设于构成透过型萤幕之菲涅尔(Fresnel)透镜薄 片与镜之间,且于上述光透过性薄片之射入面及/ 或射出面形成上述细微凹凸。 8.一种光透过性薄片制造装置,其特征为具备: 图型产生手段,在以细微凹凸作为印刷对象之光透 过性薄片上,产生以随机方式配置之细微凹凸图型 ;及 细微凹凸图型印刷手段,依产生之图型,藉由喷液 于上述光透过性薄片上形成细微凹凸; 用于制造申请专利范围第1至5项中任一项之光透 过性薄片。 9.如申请专利范围第8项之光透过性薄片制造装置, 其中 另具备细微凹凸形状选择手段,俾由多数样品中选 择形成于上述光透过性薄片上之细微凹凸之形状 。 10.一种电脑可读取之记录媒体,系记录有程式者, 该程式系使电脑执行以下手段之机能,亦即执行: 图型产生手段,俾在以细微凹凸作为印刷对象之光 透过性薄片上,产生以随机方式配置之细微凹凸图 型;及 细微凹凸图型印刷手段,俾依产生之图型,藉由喷 液于上述光透过性薄片上形成细微凹凸;而且 用于制造申请专利范围第1至5项中任一项之光透 过性薄片者。 图式简单说明: 图1:本发明第1实施形态之背投射型液晶投影机之 构成图。 图2:细微凹凸之详细说明图。 图3:细微凹凸另一例之说明图。 图4:细微凹凸另一例之说明图。 图5:本发明第3实施形态之背投射型液晶投影机之 构成图。 图6:本发明第3实施形态之细微凹凸形成装置之构 成图。 图7:图6之细微凹凸形成装置之方块图。 图8:细微凹凸形成装置之动作流程图。 图9:回折反射引起之鬼影之产生原理说明图。
地址 日本
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