发明名称 |
压电材料的加工方法 |
摘要 |
在具有预定厚度分布的光致抗蚀剂掩模(14)覆盖到压电基片(11)之后,通过使用一种在压电基片(11)和掩模(14)间具有蚀刻速率差异的蚀刻气体,通过干蚀刻方法,将基片(11)加工成一种目标三维形状。厚度分布可通过掩模材料的回流或通过压印精密印花而给予掩模(14)。通过在干蚀刻过程中反应气体的组成控制,基片(11)可被加工成与掩模(14)的放大的厚度分布一致的三维形状。由于压电材料无缺陷地被精确加工成目标形状,所以能提供高质量的元件和装置。 |
申请公布号 |
CN1791565A |
申请公布日期 |
2006.06.21 |
申请号 |
CN200480013536.1 |
申请日期 |
2004.05.20 |
申请人 |
独立行政法人科学技术振兴机构 |
发明人 |
安部隆;李丽;江刺正喜 |
分类号 |
C04B41/91(2006.01);H01L41/22(2006.01);H03H3/02(2006.01) |
主分类号 |
C04B41/91(2006.01) |
代理机构 |
北京三幸商标专利事务所 |
代理人 |
刘激扬 |
主权项 |
1.一种压电材料的加工方法,包括以下步骤:直接地或通过用于放大蚀刻比的膜将抗蚀剂掩模沉积到压电材料的表面;将所述抗蚀剂掩模整形成为预定厚度分布;和将所述压电材料和所述抗蚀剂掩模一起干蚀刻,其中,所述压电材料和所述抗蚀剂掩模以相互不同的蚀刻速率进行蚀刻,由此所述压电材料表面被加工成与所述抗蚀剂掩模厚度分布一致的三维形状。 |
地址 |
日本国埼玉县 |