发明名称 | 制造微结构的方法 | ||
摘要 | 本发明公开了一种制造微结构的方法。该方法采用光刻掩模技术和微接触印刷技术相结合。 | ||
申请公布号 | CN1260616C | 申请公布日期 | 2006.06.21 |
申请号 | CN200310114283.4 | 申请日期 | 2003.11.12 |
申请人 | 国际商业机器公司 | 发明人 | 雷纳·K·克劳斯;马库斯·施米特 |
分类号 | G03F7/00(2006.01);G03F1/08(2006.01);H01L21/027(2006.01) | 主分类号 | G03F7/00(2006.01) |
代理机构 | 北京市柳沈律师事务所 | 代理人 | 李晓舒;魏晓刚 |
主权项 | 1.在衬底中制造微结构的方法,包括以下步骤:a)提供加工掩模(10);b)由底版创建包括微结构(18)的软印模(16),所述微结构(18)具有1∶5到1∶20范围内的长宽比;c)将所述软印模(16)附着到所述掩模(10)上;d)将期望的图形模印到设置在所要加工的衬底(24)上的抗蚀剂层(26)上;以及e)利用紫外光固化所述图形。 | ||
地址 | 美国纽约州 |