发明名称 |
含有铋作为构成元素的多元素氧化物单晶的制造方法 |
摘要 |
本发明提供在制造(Bi<SUB>2</SUB>O<SUB>2</SUB>)A<SUB>m-1</SUB>B<SUB>m</SUB>O<SUB>3m+1</SUB> (A=Sr,Ba,Ca,Bi等,B=Ti,Ta,Nb)所示的这种含Bi作为构成元素的多元素氧化物单晶时,能以与制造方法无关地制造结晶性优异的氧化物单晶的方法。在基板上预先堆积助熔剂,其中助熔剂是以摩尔比0<CuO/Bi<SUB>2</SUB>O<SUB>3</SUB><2、0≤TiO/Bi<SUB>2</SUB>O<SUB>3</SUB><7/6的组合物构成的助熔剂,通过该助熔剂堆积层在基板上堆积单晶薄膜。或者,将含有原料和助熔剂组成制作为由上述摩尔比的组合物形成的熔液,将其冷却培养单晶。或者,在基板上堆积由CuO形成的助熔剂后,使用与目标膜组成相比,Bi过剩的Bi<SUB>6</SUB>Ti<SUB>3</SUB>O<SUB>12</SUB>~Bi<SUB>8</SUB>Ti<SUB>3</SUB>O<SUB>12</SUB>作为标靶,通过堆积,将Bi-Ti-O供应给该助熔剂堆积层,同时在基板上形成Bi<SUB>4</SUB>Ti<SUB>3</SUB>O<SUB>12</SUB>的单结晶薄膜。 |
申请公布号 |
CN1791706A |
申请公布日期 |
2006.06.21 |
申请号 |
CN200480013927.3 |
申请日期 |
2004.05.21 |
申请人 |
独立行政法人科学技术振兴机构 |
发明人 |
鲤沼秀臣;松本祐司;高桥龟太 |
分类号 |
C30B29/22(2006.01);C30B23/08(2006.01);C30B25/18(2006.01);C30B29/30(2006.01);C30B29/32(2006.01);C23C14/08(2006.01);C23C16/40(2006.01) |
主分类号 |
C30B29/22(2006.01) |
代理机构 |
北京三幸商标专利事务所 |
代理人 |
刘激扬 |
主权项 |
1.一种含铋作为构成元素的多元素氧化物单晶的制造方法,其特征在于:在基板上预先堆积助熔剂,其中助熔剂是以摩尔比0<CuO/Bi2O3<2、0≤TiO/Bi2O3<7/6的Bi2O3-CuO的2元体系或Bi2O3-CuO-TiO的3元体系组合物构成的助熔剂,通过该助熔剂堆积层在基板上堆积单晶薄膜。 |
地址 |
日本国埼玉县 |