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发明名称 Lithographic apparatus and device manufacturing method
摘要
申请公布号 EP1610182(A3) 申请公布日期 2006.06.21
申请号 EP20050076451 申请日期 2005.06.21
申请人 ASML NETHERLANDS BV 发明人 KUIT, JAN JAAP;BARTRAY, PETRUS RUTGERUS;BIJVOET, DIRK-JAN;HOOGKAMP, JAN FREDERIK
分类号 G03F7/20;B25J9/02;G03B27/42;H01L21/00 主分类号 G03F7/20
代理机构 代理人
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