BLANK PHOTO MASK IN THE E-BEAM EXPOSURE SYSTEM,申请号KR20040107376-传众专利搜索

发明名称	BLANK PHOTO MASK IN THE E-BEAM EXPOSURE SYSTEM
摘要
申请公布号	KR20060068642(A)	申请公布日期	2006.06.21
申请号	KR20040107376	申请日期	2004.12.16
申请人	HYNIX SEMICONDUCTOR INC.	发明人	LEE, YOUNG MO
分类号	H01L21/027	主分类号	H01L21/027
代理机构		代理人
主权项
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