高熵合金镀膜方法

摘要

本发明系关于一种高熵合金镀膜方法，其特征在于采用一种以上的高熵合金靶材，在镀膜腔体中利用物理镀膜法或辅以反应性气体使基材表面镀覆多种元素成分的材料薄膜。该高熵合金靶材为含有5至11种主要金属元素，且每一种主要金属元素之莫耳数与该合金的总莫耳数比系介于5％至35％之间。靶材可由熔解铸造法、锻造法或粉末冶金法制得。