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发明名称
升起式源极/汲极之制造方法及其在半导体元件之应用
摘要
一种制造升起式源极/汲极邻近于基材上之电晶体之闸极的间隙壁之方法,以及应用此升起式源极/汲极之积体电路的半导体元件。在一实施例中,本方法包括定位闸极,以使此闸极之方位实质上沿着基材之<100>方向。本发明亦包括提供半导体材料邻近于闸极之间隙壁,以在实质上沿着基材之<100>方向的方位上形成升起式源极/汲极之升起式源极/汲极层。
申请公布号
TW200620653
申请公布日期
2006.06.16
申请号
TW094114562
申请日期
2005.05.05
申请人
台湾积体电路制造股份有限公司
发明人
丁煜明
分类号
H01L29/76
主分类号
H01L29/76
代理机构
代理人
蔡坤财
主权项
地址
新竹市新竹科学工业园区力行六路8号
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