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发明名称
利用一抗反射层制造半导体元件之系统与方法
摘要
一种用来制造半导体元件之抗反射层,于一实施例中,一部份半导体元件包含一基底;一底部抗反射层位于该基底上,并且该底部抗反射层于一黄光暨蚀刻制程中由疏水性转换为亲水性;以及一光阻层位于该底部抗反射层上。094142167-p01.bmp
申请公布号
TW200619836
申请公布日期
2006.06.16
申请号
TW094142167
申请日期
2005.11.30
申请人
台湾积体电路制造股份有限公司
发明人
何邦庆;施仁杰
分类号
G03F7/00
主分类号
G03F7/00
代理机构
代理人
蔡坤财
主权项
地址
新竹市新竹科学工业园区力行六路8号
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