发明名称 利用一抗反射层制造半导体元件之系统与方法
摘要 一种用来制造半导体元件之抗反射层,于一实施例中,一部份半导体元件包含一基底;一底部抗反射层位于该基底上,并且该底部抗反射层于一黄光暨蚀刻制程中由疏水性转换为亲水性;以及一光阻层位于该底部抗反射层上。094142167-p01.bmp
申请公布号 TW200619836 申请公布日期 2006.06.16
申请号 TW094142167 申请日期 2005.11.30
申请人 台湾积体电路制造股份有限公司 发明人 何邦庆;施仁杰
分类号 G03F7/00 主分类号 G03F7/00
代理机构 代理人 蔡坤财
主权项
地址 新竹市新竹科学工业园区力行六路8号