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发明名称
纵型闸极半导体装置及其制造方法
摘要
本发明系关于一种纵型闸极半导体装置及其制造方法。目的系在于:提供一种在不增大源极区域的接触电阻的情况下,可谋求小型化的纵型闸极半导体装置及其制造方法。发挥电晶体作用的第1区域11,具有:汲极区域111、形成在汲极区域111上侧的体(body)区域112、形成在体区域112上侧的源极区域113A、和形成在体区域112中上被埋入了闸极电极120的沟渠。在延在于第2区域12的体区域112的上侧形成有源极区域113B。构成沟渠的上缘部的源极区域113A、113B形成为带圆弧状的形状。
申请公布号
TW200620668
申请公布日期
2006.06.16
申请号
TW094144268
申请日期
2005.12.14
申请人
松下电器产业股份有限公司
发明人
沟口修二;角田一晃
分类号
H01L29/78
主分类号
H01L29/78
代理机构
代理人
陈长文
主权项
地址
日本
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