发明名称 处理液供给装置、基板处理装置及处理液之制备方法
摘要 本发明的目的系为提供一种处理液供给装置,其能够承受由流量控制手段所控制的流量中之误差。于处理液供给装置1之中,供自化学液体供给源10的化学液体和供自纯水供给源20的纯水系在混合部30中相互混合藉以制备处理液,且将该处理液供给到作为要处理的物体之基板W。利用装设在化学液体供给管11中的恒流泵17,可控制流到混合部30内的化学液体之流量。利用分别装设在处理液供给管35和36中的恒流阀39和40,可控制从处理液供给部41和42流到该基板W的处理液之流量。由于此控制,可以将处理液中的化学液体浓度控制到预定的值。
申请公布号 TW200619889 申请公布日期 2006.06.16
申请号 TW094140211 申请日期 2005.11.16
申请人 荏原制作所股份有限公司 发明人 阿藤浩司
分类号 G05D11/02 主分类号 G05D11/02
代理机构 代理人 洪武雄;陈昭诚
主权项
地址 日本