发明名称 半导体晶片之堆叠构造及其制造方法
摘要 本发明半导体晶片之堆叠构造及其制造方法,其包括有一基板,其设有一上表面及一下表面,该下表面形成有复数个第一电极。一凸缘层为一框型结构,系叠合于该基板之上表面,而与该基板形成有一凹槽,该凸缘层设有复数个第二电极及复数个第三电极。一下层晶片,其系设置于该基板之上表面上,并位于该凹槽内。复数条第一导线系由凸缘层上之第一电极打线至该下层晶片上。复数个隔绝元件系设置于该下层晶片上。一上层晶片系设置于该下层晶片上方,被该复数个隔绝元件支撑住。复数条第二导线系由该上层晶片打线至该凸缘层之第三电极上。一封胶层系用以将该上层晶片及该下层晶包覆住。
申请公布号 TW200620462 申请公布日期 2006.06.16
申请号 TW093138402 申请日期 2004.12.10
申请人 胜开科技股份有限公司 发明人 辛宗宪;黄以碧
分类号 H01L21/31 主分类号 H01L21/31
代理机构 代理人
主权项
地址 新竹县竹北市泰和路84号