发明名称 | 半导体晶片之堆叠构造及其制造方法 | ||
摘要 | 本发明半导体晶片之堆叠构造及其制造方法,其包括有一基板,其设有一上表面及一下表面,该下表面形成有复数个第一电极。一凸缘层为一框型结构,系叠合于该基板之上表面,而与该基板形成有一凹槽,该凸缘层设有复数个第二电极及复数个第三电极。一下层晶片,其系设置于该基板之上表面上,并位于该凹槽内。复数条第一导线系由凸缘层上之第一电极打线至该下层晶片上。复数个隔绝元件系设置于该下层晶片上。一上层晶片系设置于该下层晶片上方,被该复数个隔绝元件支撑住。复数条第二导线系由该上层晶片打线至该凸缘层之第三电极上。一封胶层系用以将该上层晶片及该下层晶包覆住。 | ||
申请公布号 | TW200620462 | 申请公布日期 | 2006.06.16 |
申请号 | TW093138402 | 申请日期 | 2004.12.10 |
申请人 | 胜开科技股份有限公司 | 发明人 | 辛宗宪;黄以碧 |
分类号 | H01L21/31 | 主分类号 | H01L21/31 |
代理机构 | 代理人 | ||
主权项 | |||
地址 | 新竹县竹北市泰和路84号 |