发明名称 薄膜电晶体之制造方法
摘要 本发明提供一种可有效简化薄膜电晶体制程,节省制程设备成本,提高生产良率之薄膜电晶体之制造方法,其包括如下步骤:提供一基板;对该基板进行清洗;利用雷射化学气相沉积之修补技术在基板上镀膜进行电路沉积。
申请公布号 TW200620671 申请公布日期 2006.06.16
申请号 TW093138294 申请日期 2004.12.10
申请人 群创光电股份有限公司 发明人 曾江弘;彭家鹏;林至成;吴泽
分类号 H01L29/786 主分类号 H01L29/786
代理机构 代理人
主权项
地址 苗栗县竹南镇新竹科学园区科学路160号
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