薄膜成形用分子供给装置

摘要

〔课题〕即使是比较宽的成膜面9，仍可藉由从单一的蒸发源所放射的分子，形成具有均匀性高的膜厚。〔解决手段〕本发明系提供一种薄膜成形用分子供给装置，系设计复数个导引路4a、4b、4c，藉由该导引路4a、4b、4c，控制分子蒸气的流量与分子蒸气的方向性，改善基板8的成膜面9上的膜厚分布。藉此，由于在基板8的成膜面9需要的部份上可到达需要量的成膜材料，因此不需旋转移动成膜面9，而缩小形成于成膜面9上之薄膜的膜厚不均，可形成均匀膜厚之薄膜。再者，可某程度自由地控制成膜面9之任意处的膜厚。