发明名称 基板处理装置
摘要 在具有自水平搬送手段朝基板回转处理单元移载基板的机构之装置中,提供一种不必担心发生灰尘,即使实施湿式处理也不会有不便,且构造简单,占地面积也比较小之装置。其具有:基板回转处理单元10及传送滚子16;且具有:和传送滚子的搬送路终端部相对向且使支持基板W的活动滚子28之基板支持面和传送滚子的基板搬送面配置成同一高度之输送板20;及,自传送滚子之搬送路终端部朝向输送板上可使基板水平移动之移载臂32;及,自基板传送位置A朝向基板回转处理单元的回转保持圆板12上移动支持基板的输送板之支持.移动机构;而回转保持圆板系具有可保持输送板的载置面及基板之支持销44、46。
申请公布号 TW200620529 申请公布日期 2006.06.16
申请号 TW094136143 申请日期 2005.10.17
申请人 大斯克琳制造股份有限公司 发明人 柴崎博
分类号 H01L21/68;B65G49/07 主分类号 H01L21/68
代理机构 代理人 赖经臣;宿希成
主权项
地址 日本