利用光学微影技术制作抗反射结构之方法

摘要

本发明系揭露一种利用光学微影技术制作抗反射结构之方法，其系利用现有光学微影技术来制作，并同时配合调整曝光机台的数值孔径、聚焦深度、曝光剂量与曝光时间等曝光参数，以及适当设计光罩的结构排列，以调变制作出的抗反射结构之倾斜角度、周期大小及最佳化排列方式等；更可针对特定光波长之光电元件应用来设计抗反射结构，以降低其反射率，提高光电元件之光电效率。