发明名称 |
图案化方法,成膜方法,电激发光元件之制造方法,电激发光元件及电场发光显示装置 |
摘要 |
〔课题〕提供精细度高、制造成本低的EL(电激发光)元件及电场发光显小装置。〔解决手段〕以包含:藉由曝光具备(a)基板、和(b)形成于该基板上的一部分,含有光触媒的光触媒层、和(c)形成于具备该基板(a)与该光触媒层(b)的基材的上表面,藉由该光触媒的作用而可被分解的图案化层的基材,分解除去该光触媒层上的该图案化层(c),使该光触媒层的上表面至少一部分露出的图案化工程而作为特征的图案化方法、使用了该图案化方法的成膜方法、使用了该成膜方法的EL元件的制造方法、及藉由该制造方法而可得的EL元件及电场发光显示装置。 |
申请公布号 |
TW200619854 |
申请公布日期 |
2006.06.16 |
申请号 |
TW094133142 |
申请日期 |
2005.09.23 |
申请人 |
昭和电工股份有限公司 |
发明人 |
福地隆 |
分类号 |
G03F7/16;G03F7/20;H05B33/10;H05B33/12 |
主分类号 |
G03F7/16 |
代理机构 |
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代理人 |
林志刚 |
主权项 |
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地址 |
日本 |