发明名称 |
高分子化合物、正型光阻组成物、及光阻图型之形成方法 |
摘要 |
本发明为提供一种光阻组成物,其为含有,具有酸解离性溶解抑制基之(α-低级烷基)丙烯酸酯所衍生之结构单位(a1)的高分子化合物,又,该结构单位(a1)为含有下述式(a1-0)所示之结构单位(a1-0)。094134017-p01.bmp〔式中,R为氢原子或低级烷基,R^1与R^2各自独立为低级烷基,R^3至R^6各自独立为氢原子或低级烷基,s为0或1至3之整数,t为1至3之整数,X为脂肪族环式基,其可具有由低级烷基与极性基所成群中所选出之至少1种的取代基,Y为极性基〕。094134017-p01.bmp |
申请公布号 |
TW200619238 |
申请公布日期 |
2006.06.16 |
申请号 |
TW094134017 |
申请日期 |
2005.09.29 |
申请人 |
东京应化工业股份有限公司 |
发明人 |
羽田英夫;松丸省吾;竹下优 |
分类号 |
C08F20/18;G03F7/039;H01L21/027 |
主分类号 |
C08F20/18 |
代理机构 |
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代理人 |
林志刚 |
主权项 |
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地址 |
日本 |