发明名称 高分子化合物、正型光阻组成物、及光阻图型之形成方法
摘要 本发明为提供一种光阻组成物,其为含有,具有酸解离性溶解抑制基之(α-低级烷基)丙烯酸酯所衍生之结构单位(a1)的高分子化合物,又,该结构单位(a1)为含有下述式(a1-0)所示之结构单位(a1-0)。094134017-p01.bmp〔式中,R为氢原子或低级烷基,R^1与R^2各自独立为低级烷基,R^3至R^6各自独立为氢原子或低级烷基,s为0或1至3之整数,t为1至3之整数,X为脂肪族环式基,其可具有由低级烷基与极性基所成群中所选出之至少1种的取代基,Y为极性基〕。094134017-p01.bmp
申请公布号 TW200619238 申请公布日期 2006.06.16
申请号 TW094134017 申请日期 2005.09.29
申请人 东京应化工业股份有限公司 发明人 羽田英夫;松丸省吾;竹下优
分类号 C08F20/18;G03F7/039;H01L21/027 主分类号 C08F20/18
代理机构 代理人 林志刚
主权项
地址 日本