基材外周处理方法及装置

摘要

本发明提高覆膜于晶圆等底材外周部之不需要物质之除去效率，并且防止微粒子等附着于晶圆上。本发明系将除去不需要物所用之反应性气体，从与晶圆90正交之方向观察，大致沿着晶圆90外周部90a之被处理位置之周方向，朝向前述被处理位置，而自喷出喷嘴75喷出。于该喷出方向之比前述被处理位置下游测，在大致沿着前述周方向之方向上，以吸引喷嘴76吸引前述被处理位置之附近。