用以处理基板之电浆处理系统

摘要

一种用以处理基板之电浆处理系统，包含一处理槽，其包含一用以接收第一气体并提供电浆空间之第一槽部分、与一用以接收第二气体并提供制程空间之第二槽部分，该制程空间具有用以处理该基板之制程化学品。一基板支架与该处理槽之第二槽部分结合，并用以支持邻近制程空间之该基板，一电浆源与该处理槽之第一槽部分结合，并用以在该电浆空间中形成电浆。一格栅位于该电浆空间与制程空间之间，并用以使电浆得以在该电浆空间与制程空间之间扩散，以由该第二气体形成该制程化学品。