曝光装置、曝光方法及元件制造方法

摘要

曝光装置EX，系以液体LQ充满曝光用光EL之光路空间，透过投影光学系统PL与液体LQ对基板P上照射曝用光EL，来使基板P曝光。投影光学系统PL之第1光学元件LS1，具有与液体LQ接触之凹面部2。曝光装置EX，具备用以除去凹面部2内侧之异物的除去装置40。透过投影光学系统与液体使曝光用光良好的到达像面侧，来实现液浸曝光。