化学机械研磨垫及其相关的制造与应用方法

摘要

本发明揭露一于加工CMP抛光垫(研磨垫)时，用以增加磨粒之工作负载的CMP修整器，以及其相关连的方法，该磨粒增加的工作负载改善CMP抛光垫加工表现并延长CMP修整器的使用寿命。