发明名称 |
薄膜形成材料和藉由照射该材料之薄膜以制备表面浮雕与光学各向异性结构 |
摘要 |
本发明系关于一种薄膜形成、光活性、均匀混合材料,其包含一由下列化合物制成之错合物:(a)至少一可进行光反应之离子光敏化合物及/或(a’)至少一带有可进行该光反应之残基的光敏聚电解质(“第二聚电解质”),其中该光反应系选自光异构化、光环加成及光诱发重组,及(b)至少一带有与这些光敏材料之活性基团相反之电荷的(「第一」)聚电解质。此材料具有独特光化学性质,其中可由该材料制得可光诱发产生光学各向异性及位相表面结构,例如表面浮雕光栅(SRG)之非散射、光学上透明薄膜。 |
申请公布号 |
TW200619235 |
申请公布日期 |
2006.06.16 |
申请号 |
TW094129590 |
申请日期 |
2005.08.30 |
申请人 |
应用研究促进协会法兰霍夫公司 |
发明人 |
约谦 史图姆普;雷欧尼 歌登贝尔格;欧尔格 库里寇夫史卡 |
分类号 |
C08F20/06;C08G73/02;C08G77/04;C08J5/18;G02B5/18 |
主分类号 |
C08F20/06 |
代理机构 |
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代理人 |
林镒珠;桂齐恒 |
主权项 |
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地址 |
德国 |