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发明名称
多孔质体之制造方法、多孔质体、防反射膜、防反射片之制造方法、防反射片
摘要
本发明提供一种多孔质体之制造方法,能够使用于防反射片等光学用途,具有微细且均匀的空孔与高的空孔率。本发明提供一种多孔质体之制造方法,包含:将硬化性材料、进行该硬化性材料或其硬化物相分离之添加剂予以混合而形成均匀状态的步骤;使该硬化性材料予以硬化,制作该添加剂已被微观相分离之成形物的步骤;及从该成形物去除已被微观相分离的添加剂而形成空孔,得到多孔质体的步骤。
申请公布号
TW200619288
申请公布日期
2006.06.16
申请号
TW094131284
申请日期
2005.09.12
申请人
日东电工股份有限公司
发明人
金田充宏;山本孝幸;水谷香织
分类号
C08J9/26;G02B1/11
主分类号
C08J9/26
代理机构
代理人
周良谋;周良吉
主权项
地址
日本
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