发明名称 DISPOSITIF POUR VAPORISER UN MATERIAU ET APPLIQUER UN MATERIAU VAPORISE SUR UNE STRUCTURE
摘要 Dispositif pour vaporiser un matériau et appliquer un matériau vaporisé sur un substrat (9) dans une enceinte à une pression réduite, comprenant :a) un distributeur de vapeur allongé (40) disposé dans l'enceinte et distant du substrat (9), le distributeur de vapeur (40) comprenant plusieurs trous d'évacuation de vapeur, formés dans une direction allongée du distributeur (40) pour délivrer un matériau vaporisé pour le dépôt d'une couche sur le substrat (9);b) au moins une source amovible d'évaporation (28), qui est disposée à l'extérieur de l'enceinte,c) un dispositif (43, 46) de distribution de vapeur pour la source d'évaporisation (28), qui est raccordé audit distributeur (40), des moyens de liaison (37, 38) pour le détachement ou le raccordement de ladite source d'évaporation (28) étant prévus à l'extérieur de l'enceinte.
申请公布号 FR2879218(A1) 申请公布日期 2006.06.16
申请号 FR20050011548 申请日期 2005.11.10
申请人 APPLIED FILMS GMBH CO KG 发明人 HOFFMANN UWE;TRUBE JUTTA;HAAS DIETER
分类号 C23C14/54;C23C14/12;C23C14/24;H01L51/56 主分类号 C23C14/54
代理机构 代理人
主权项
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