| 发明名称 |
METHOD FOR MANUFACTURING PHOTORESIST PATTERNS |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
KR20060064293(A) |
申请公布日期 |
2006.06.13 |
| 申请号 |
KR20040103098 |
申请日期 |
2004.12.08 |
| 申请人 |
SAMSUNG ELECTRONICS CO., LTD. |
发明人 |
HAN, JUNG SOO |
| 分类号 |
H01L21/312;H01L21/027;H01L21/32;H01L21/324 |
主分类号 |
H01L21/312 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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