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发明名称 METHOD AND APPARATUS FOR RINSING AND DRYING WAFER
摘要
申请公布号 KR20060063403(A) 申请公布日期 2006.06.12
申请号 KR20040102570 申请日期 2004.12.07
申请人 K.C.TECH CO., LTD. 发明人 KIM, GI HYEON;LEE, SEUNG HEE;LEE, TAE WOO;KANG, BYOUNG JU
分类号 H01L21/304 主分类号 H01L21/304
代理机构 代理人
主权项
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