发明名称 Novel Sulfonyldiazomethanes, Photoacid Generators, Resist Composition, and Patterning Process
摘要
申请公布号 KR100587452(B1) 申请公布日期 2006.06.09
申请号 KR20020058663 申请日期 2002.09.27
申请人 发明人
分类号 C07C317/28;G03F7/004;G03F7/038;G03F7/039 主分类号 C07C317/28
代理机构 代理人
主权项
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