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经营范围
发明名称
Novel Sulfonyldiazomethanes, Photoacid Generators, Resist Composition, and Patterning Process
摘要
申请公布号
KR100587452(B1)
申请公布日期
2006.06.09
申请号
KR20020058663
申请日期
2002.09.27
申请人
发明人
分类号
C07C317/28;G03F7/004;G03F7/038;G03F7/039
主分类号
C07C317/28
代理机构
代理人
主权项
地址
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