发明名称 |
Mehrfachmaske und Verfahren zur Herstellung unterschiedlich dotierter Gebiete |
摘要 |
Zur Herstellung von Dotierungsgebieten (DG) in einem Substrat (S) mit unterschiedlichen Dotierungen mit Hilfe einer einzigen Maske (DM) wird vorgeschlagen, unterschiedliche Maskenbereiche vorzusehen, die jeweils langgestreckte Maskenöffnungen (MO) mit unterschiedlicher Ausrichtung relativ zur Raumrichtung einer Schrägimplantation aufweisen. Zwischen erster und zweiter Schrägimplantation wird das Substrat gedreht, wobei sich bei der ersten Schrägimplantation maximale und minimale Abschattung in den unterschiedlichen Maskenbereichen gegenüberstehen und sich die Verhältnisse bei der zweiten Schrägimplantation nach dem Drehen des Substrats genau umkehren.
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申请公布号 |
DE102004058412(A1) |
申请公布日期 |
2006.06.08 |
申请号 |
DE20041058412 |
申请日期 |
2004.12.03 |
申请人 |
AUSTRIAMICROSYSTEMS AG, UNTERPREMSTAETTEN |
发明人 |
SCHREMS, MARTIN;MINIXHOFER, RAINER;KNAIPP, MARTIN |
分类号 |
H01L21/266;H01L21/761 |
主分类号 |
H01L21/266 |
代理机构 |
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代理人 |
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主权项 |
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地址 |
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