发明名称 Mehrfachmaske und Verfahren zur Herstellung unterschiedlich dotierter Gebiete
摘要 Zur Herstellung von Dotierungsgebieten (DG) in einem Substrat (S) mit unterschiedlichen Dotierungen mit Hilfe einer einzigen Maske (DM) wird vorgeschlagen, unterschiedliche Maskenbereiche vorzusehen, die jeweils langgestreckte Maskenöffnungen (MO) mit unterschiedlicher Ausrichtung relativ zur Raumrichtung einer Schrägimplantation aufweisen. Zwischen erster und zweiter Schrägimplantation wird das Substrat gedreht, wobei sich bei der ersten Schrägimplantation maximale und minimale Abschattung in den unterschiedlichen Maskenbereichen gegenüberstehen und sich die Verhältnisse bei der zweiten Schrägimplantation nach dem Drehen des Substrats genau umkehren.
申请公布号 DE102004058412(A1) 申请公布日期 2006.06.08
申请号 DE20041058412 申请日期 2004.12.03
申请人 AUSTRIAMICROSYSTEMS AG, UNTERPREMSTAETTEN 发明人 SCHREMS, MARTIN;MINIXHOFER, RAINER;KNAIPP, MARTIN
分类号 H01L21/266;H01L21/761 主分类号 H01L21/266
代理机构 代理人
主权项
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