发明名称 Field effect transistor
摘要 A field effect transistor comprises a source and a drain, and a channel layer of Si<SUB>1-x-y</SUB>Ge<SUB>x</SUB>C<SUB>y </SUB>crystal (1>x>0, 1>y>=0). Ge composition increases toward a drain end, in a vicinity of a source end of the channel layer.
申请公布号 US2006118776(A1) 申请公布日期 2006.06.08
申请号 US20060336817 申请日期 2006.01.23
申请人 KABUSHIKI KAISHA TOSHIBA 发明人 TEZUKA TSUTOMU;TAKAGI SHINICHI;MIZUNO TOMOHISA
分类号 H01L21/3065;H01L31/109;H01L21/205;H01L21/28;H01L21/336;H01L29/10;H01L29/78;H01L29/786 主分类号 H01L21/3065
代理机构 代理人
主权项
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