Maske und Belichtungseinrichtung

摘要

Bei einer Maske mit einer bei einer vorgegebenen Belichtungswellenlänge lithografisch auf einem Substrat abzubildenden Struktur, die wenigstens ein Strukturelement mit einer Breite im Bereich der Größenordnung der Belichtungswellenlänge aufweist, ist das Strukturelement in voneinander beabstandete Abschnitte unterteilt, deren Länge im Bereich der Größenordnung der Belichtungswellenlänge liegt.