发明名称 | 单元件技术的电解槽用电化学池 | ||
摘要 | 本发明涉及一种用于隔膜电解法的单元件技术的电解槽用电化学池。所述池组成如下:至少两个半壳体(8,10),该半壳体围绕其间设置有隔膜(5)的阳极电解液室(16)和阴极室(22);位于阳极电解液室(16)中的阳极(6),而在阴极室(22)中设置有耗氧阴极(4),其中具有以一个在另一个之上的方式排布的许多压力补偿气袋(15);阴极电解液间隙(14)和任选地后室(19),其特征在于,导电支撑元件(7)设置在阳极电解液室(16)中,而支撑元件(3,2,1)的同样互相相对的位置设置在阴极室(22)中。 | ||
申请公布号 | CN1258619C | 申请公布日期 | 2006.06.07 |
申请号 | CN00816662.5 | 申请日期 | 2000.11.20 |
申请人 | 拜尔公司 | 发明人 | F·格斯特曼 |
分类号 | C25B9/00(2006.01) | 主分类号 | C25B9/00(2006.01) |
代理机构 | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人 | 王景朝;谭明胜 |
主权项 | 1、一种用于隔膜电解法的电化学池,其组成如下:至少两个半壳体(8,10),该半壳体围绕其间设置有隔膜(5)的阳极电解液室(16)和阴极室(22);位于阳极电解液室(16)中的阳极(6),而在阴极室(22)中设置有耗氧阴极(4),其中具有以一个在另一个之上的方式排布的许多压力补偿气袋(15);阴极电解液间隙(14)和任选地后室(19),其特征在于,导电支撑元件(7)设置在阳极电解液室(16)中,而支撑元件(3,2,1)以在同样互相相对的位置,被设置在阴极室(22)中。 | ||
地址 | 德国莱沃库森 |