| 发明名称 | 光掩模的制造方法 | ||
| 摘要 | 掩模的制造方法具备在形成光掩模的图案后，测定形成的图案的尺寸步骤和根据测定的图案尺寸的结果求出使用上述光掩模时的曝光裕度的步骤。并且根据上述求得的曝光裕度是否满足所期望的曝光裕度这个条件，来判断上述光掩模是否合格。 | ||
| 申请公布号 | CN1782871A | 申请公布日期 | 2006.06.07 |
| 申请号 | CN200510133813.9 | 申请日期 | 2001.08.29 |
| 申请人 | 株式会社东芝 | 发明人 | 伊藤正光;野嶋茂树;三本木省次;池永修 |
| 分类号 | G03F1/00(2006.01);H01L21/027(2006.01) | 主分类号 | G03F1/00(2006.01) |
| 代理机构 | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人 | 李德山 |
| 主权项 | 1.一种半色调相移掩模的制造方法，包括：确定半色调相移掩模的半色调图案尺寸的平均值；确定所述尺寸的面内均匀性；确定所述半色调图案的透光率的平均值；确定所述透光率的面内均匀性；确定所述半色调图案的相移量的平均值；确定所述相移量的面内均匀性；根据所述尺寸的平均值和面内均匀性确定第一曝光裕度；根据所述透光率的平均值和面内均匀性以及所述相移量的平均值和面内均匀性来确定第二曝光裕度；根据第一和第二曝光裕度确定总曝光裕度；以及根据所述总曝光裕度是否符合规定的曝光裕度，来判断所述半色调相移掩模是否合格。 | ||
| 地址 | 日本东京都 | ||