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发明名称 PLASMA PROCESSING EQUIPMENT
摘要
申请公布号 EP1521297(A4) 申请公布日期 2006.06.07
申请号 EP20030741183 申请日期 2003.07.03
申请人 OHMI, TADAHIRO;TOKYO ELECTRON LIMITED 发明人 OHMI, TADAHIRO;HIRAYAMA, MASAKI;GOTO, TETSUYA
分类号 H01L21/31;H05H1/46;C23C16/44;C23C16/455;C23C16/511;H01J37/32 主分类号 H01L21/31
代理机构 代理人
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